報(bào)道稱,隨著日本政府為了加強(qiáng)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈而推動(dòng)生產(chǎn)基地的建設(shè),日本各地建立和擴(kuò)大半導(dǎo)體相關(guān)生產(chǎn)基地的舉措不斷涌現(xiàn)。但半導(dǎo)體在清洗等過程中使用大量的水,確保工業(yè)用水是一個(gè)問題。
其中,臺(tái)積電計(jì)劃與索尼等在熊本縣共同建設(shè)的工廠目前計(jì)劃使用地下水。雖然臺(tái)積電也在考慮建設(shè)第二家工廠,但當(dāng)?shù)鼐用駬?dān)心對(duì)地下水的影響,熊本縣正在考慮建設(shè)工業(yè)用水所需的設(shè)施。
因此,日本經(jīng)產(chǎn)省制定了新的制度,為工業(yè)用水所需的凈水廠和水管等設(shè)施的建設(shè)提供補(bǔ)貼。此后其還將考慮具體制度,例如支持通過向民間企業(yè)委托管理來提高企業(yè)的管理效率。
據(jù)悉,日本政府上個(gè)月重新修訂芯片策略,目標(biāo)是在2030年前,讓國(guó)內(nèi)制半導(dǎo)體銷售額增加兩倍至超過15萬億日元(1080億美元),此舉凸顯出芯片在日本經(jīng)濟(jì)安全政策占有核心地位。