報(bào)道稱,三星電子于2022年6月通過環(huán)柵(GAA)工藝開始量產(chǎn)3納米芯片,比臺(tái)積電提前6個(gè)月,世界第一。受到三星先發(fā)制人的打擊,臺(tái)積電高層多次公開2納米制程計(jì)劃,引發(fā)超精細(xì)制造競賽。
英特爾也加入這場競賽,其設(shè)定了一個(gè)目標(biāo),即在2024年下半年推進(jìn)其代工生產(chǎn)1.8納米制程內(nèi)的芯片。3月,該公司制定了一項(xiàng)計(jì)劃,使用通過與ARM建立合作伙伴關(guān)系實(shí)現(xiàn)1.8納米工藝。不過,也有業(yè)內(nèi)人士悲觀地認(rèn)為,即使英特爾按照路線圖取得成功,要實(shí)現(xiàn)收支平衡對(duì)公司來說也是一個(gè)很大的挑戰(zhàn)。
據(jù)悉,臺(tái)積電計(jì)劃在竹科建設(shè)全球最尖端的2納米芯片工廠,計(jì)劃在2025年開始量產(chǎn)。臺(tái)積電的2納米技術(shù)在相同功耗下,相比3納米工藝的速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%。